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- 更新日期：2021-09-03
产品说明
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Primo AD-RIE 在促进中微第一代刻蚀设备技术创新的同时，又大大扩大了其自身的加工领域。该设备的主要部分是一组创新的少量反应台反应器的簇架构，可以灵活地装置多达三个双反应台反应器，以达到最佳芯片加工输出量。每个反应器都可以实现单芯片或双芯片加工。独特的反应器腔体设计融合了中微专有的等离子体聚焦和喷淋头技术，确保了芯片加工的质量。Primo AD-RIE 的一些基本特征使其更具备28纳米以下关键刻蚀加工的能力，这些基本特征包括：除了已有的60兆赫兹射频以外，2-13.5兆赫兹可切换射频使 Primo AD-RIE 加工范围更加广泛，独特的射频输入和对称分布改善了等离子密度的均匀分布，三区气体分布和双调谐气体提高了刻蚀的均匀度和调谐性，静电吸盘双区冷却装置提高了晶片温度的可调性并极大改善了晶圆片的刻蚀均匀度。
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