- 产品名称:广东172nm准分子灯购买_口碑好的172nm准分子灯怎么使用_广明源光科技股份有限公司
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- 更新日期:2023-02-15
真空紫外辐照能够分解和去除(干燥)H2O,并可以在较低温度下抑制界面异常(无需加热)。不需要用到粘合剂的表面活化粘合通过表面活化去除有机物,实现“无粘合耦合”和“更大的耦合强度”172nm准分子灯可定制,已有相关合作方案,有疑问可咨询广明源.在工业应用中,常用的准分子波长是172nm.其23eV的能量足以直接裂解有机分子的所有主要键,但碳和氧(C=O)之间的键和一些无机氧化物之间的键除外!这使其成为表面改性、光清洗、光固化的好选择.
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广东172nm准分子灯购买
准分子灯,又称紫外线准分子灯,通过采用准分子气体配比获得不同单色波长,如172nm、222nm或308nm等高强度的准分子紫外光!准分子发射的紫外线光具有单光谱特性,狭窄的光谱线和单色紫外辐射光谱使得它能用更集中的功率来进行光处理.光清洗利用有机化合物的光敏氧化作用,去除黏附在材料表面的有机物,经过光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”!主要应用于液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、光学器件等领域。
大量产生激发态氧原子准分子紫外线灯与传统汞紫外线灯比较,光强超大,靶向准确,无汞制造,绿色环保,可回收,无二次污染!与低压紫外灯的185nm波长相比,准分子灯172nm波长的分子氧吸收系数大20倍左右!这不仅可以产生高密度的活性氧,而且通过直接作用于氧气,可以产生具有强大氧化能力的强激发氧。模块工序平板显示器无损害紫外线灰化通过UV照射,促进激发氧和光刻胶化学反应,使光刻胶在基板上能灰化去除。用途:清洁纳米压印膜具光刻胶灰化/表面改性去除光刻胶的显影残留物在干洗基板表面时消除静电172nm准分子光照射基板表面,在精密干洗的同时去除静电真空紫外辐照脱水在有机材料薄膜沉积工艺中,由于水分子吸附而产生的界面异常可能是缩短/降低面板寿命的主要因素!
提高亲水性材料表面暴露在空气中,空气中的有机物会附着使得材料面发生老化现象,呈现出疏水特性.通过172nm波长的UV紫外线照射氧气分子,产生一系列化学作用后,清除材料如钛金属表面的碳氢化合物,可以大大提高材料表面亲水性!在某些情况下,可以实现完全亲水化,其中整个表面变得润湿.此时,液体的接触角达到零度,将液滴转化为液膜!应用:平板显示器制造薄膜晶体管阵列工序彩色滤光片制作工序粘接准分子发射的紫外线光具有单光谱特性,狭窄的光谱线和单色紫外辐射光谱使得它能用更集中的功率来进行光处理!
基于准分子光源特点,我们来看看准分子光源是如何产生作用的.以准分子波长172nm为例,紫外线照射固体表面后,表面的污染物有机分子结合被强的光能切断、氧化,而后分解成氧气和氢气等易挥发性物质,最终挥发消失,被清洗后的表面清洁度高。打破分子键打破有机物质的分子键的能量需要超过物质结合能的光能,同时物质的能量吸收(激发)越大,就越容易引发反应(分解)并且所需的处理时间越短!因此使用低压紫外线灯无法打破的结合能可以使用准分子灯产生的172nm波长进行分解。