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硅碳球
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- 产品名称：硅碳球价格_山东铁合金厂家-安阳县万丰实业有限公司
- 产品价格：面议
- 产品数量：1000
- 保质/修期：1
- 保质/修期单位：年
- 更新日期：2020-09-15
产品说明
河北硅铝铁销售_河南销售-安阳县万丰实业有限公司
硅碳球是什么
有许多没有冶金经验的人会问硅碳球是什么难道跟皮球一样吗？哈哈
硅碳球
硅碳球在炼钢行业可不只脱氧这么简单，正因为可以快速降低钢水中的氧气含量，因此无形中减少了钢水中的氧化物大大提高了钢水的纯净度使钢材质量大大提升，因此硅碳球还具有减少冶炼渣的应用
硅碳球这种复合型冶金材料绝不是想象的通过冶炼炉冶炼而成，安阳县万丰实业有限公司,万丰实业,它内部含有丰富的硅元素与碳元素，这种工业材料主要被用于炼钢和铸造
硅碳球的应用有哪些
硅碳球可以起到良好的脱氧效果，在炼钢行业使用硅碳球可将脱氧时间下降10~30%，硅碳球价格，这主要归功于硅碳球内部丰富的硅元素含量，硅元素在炼钢时可谓算的上是缺一不可的重要脱氧元素，化学好的人都知道硅与氧气具有很稳定的亲和作用，可生成二氧化硅，硅碳球内部含有丰富的硅元素，硅碳球价格，因此使用硅碳球进行炼钢可以起到快速脱氧的应用
硅碳球价格更多内容
二氧化硅如何提取成单晶硅
单晶硅的生产 （1）硅的主要来源是石英砂（二氧化硅），硅元素和氧元素通过共价键连接在一起。因此需要将氧元素从二氧化硅中分离出来，硅碳球价格，换句话说就是要将硅还原出来，采用的方法是将二氧化硅和碳元素（可以用煤、焦炭和木屑等）一起在电弧炉中加热至2100°C左右，这时碳就会将硅还原出来。
化学反应方程式为：SiO2 (s) + 2C (s) = Si (s) + 2CO (g)（吸热） （2）上一步骤中得到的硅中仍有大约2%的杂质，称为冶金级硅，其纯度与半导体工业要求的相差甚远，因此还需要进一步提纯。方法则是在流化床反应器中混合冶金级硅和氯化氢气体，*后得到沸点仅有31°C的三氯化硅。
化学反应方程式为：Si (s) + 3HCl (g) = SiHCl3 (g) + H2 (g)（放热）（3）随后将三氯化硅和氢气的混合物蒸馏后再和加热到1100°C的硅棒一起通过气相沉积反应炉中，从而除去氢气，同时析出固态的硅，击碎后便成为块状多晶硅。
这样就可以得到纯度为99。 %的硅，换句话说，也就是平均十亿个硅原子中才有一个杂质原子。（4）进行到目前为止，半导体硅晶体对于芯片制造来说还是太小，因此需要把块状多晶硅放入坩埚内加热到1440°C以再次熔化为了防止硅在高温下被氧化，坩埚会被抽成真空并注入惰性气体氩气。
之后用纯度99。7%的钨丝悬挂硅晶种探入熔融硅中，晶体成长时，以2~20转/分钟的转速及3~10毫米/分钟的速率缓慢从熔液中拉出：探入晶体“种子”长出了所谓的“肩部”长出了所谓的“身体”这样一段时间之后就会得到一根纯度极高的硅晶棒，理论上大直径可达45厘米，大长度为3米。
以上所简述的硅晶棒制造方法被称为切克劳斯法（Czochralski process，也称为柴氏长晶法），此种方法因成本较低而被广泛采用，除此之外，还有V-布里奇曼法（Vertikalern Bridgman process）和浮动区法（floating zone process）都可以用来制造单晶硅。
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化学反应方程式为：SiO2 (s) + 2C (s) = Si (s) + 2CO (g)（吸热） （2）上一步骤中得到的硅中仍有大约2%的杂质，称为冶金级硅，其纯度与半导体工业要求的相差甚远，因此还需要进一步提纯。方法则是在流化床反应器中混合冶金级硅和氯化氢气体，*后得到沸点仅有31°C的三氯化硅。
化学反应方程式为：Si (s) + 3HCl (g) = SiHCl3 (g) + H2 (g)（放热）（3）随后将三氯化硅和氢气的混合物蒸馏后再和加热到1100°C的硅棒一起通过气相沉积反应炉中，从而除去氢气，同时析出固态的硅，击碎后便成为块状多晶硅。
这样就可以得到纯度为99。 %的硅，换句话说，也就是平均十亿个硅原子中才有一个杂质原子。（4）进行到目前为止，半导体硅晶体对于芯片制造来说还是太小，因此需要把块状多晶硅放入坩埚内加热到1440°C以再次熔化为了防止硅在高温下被氧化，坩埚会被抽成真空并注入惰性气体氩气。
之后用纯度99。7%的钨丝悬挂硅晶种探入熔融硅中，晶体成长时，以2~20转/分钟的转速及3~10毫米/分钟的速率缓慢从熔液中拉出：探入晶体“种子”长出了所谓的“肩部”长出了所谓的“身体”这样一段时间之后就会得到一根纯度极高的硅晶棒，理论上大直径可达45厘米，大长度为3米。
以上所简述的硅晶棒制造方法被称为切克劳斯法（Czochralski process，也称为柴氏长晶法），此种方法因成本较低而被广泛采用，除此之外，还有V-布里奇曼法（Vertikalern Bridgman process）和浮动区法（floating zone process）都可以用来制造单晶硅。
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