型号包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB.其中CABL-9000C系列小线宽可达8nm，小束斑直径2nm，套刻精度20nm(mean2σ)，拼接精度20nm(mean2σ)！欣源科技SYNERCE代理日本CRESTEC公司的电子束光刻系统，又称作电子束曝光、电子束直写、EBL、E-BeamLithography等。

　　==================================超高分辨率电子束光刻EBLUltrahighResolutionEBLithography(CABL-UHseries)纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一!日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统.

我们推荐CRESTEC电子束光刻

　　电子束光刻系统EBL(E-BeamLithography)电子束直写系统、电子束曝光系统CABL-9000Cseries30kV、50kV、90kV、110kV、130kV2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统!

　　描电镜分辨率：小于2nm主要特点：1!采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪2.出色的电子束偏转控制技术3！采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率（addresssize)可达0.0012nm4!采用轴对称图形书写技术，图形偏角分辨率可达0!01mrad5!应用领域广泛，如微纳器件加工，Si/GaAs兼容工艺，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻（Mix&Match），图形线宽和图形位移测量等!

高品质CRESTEC电子束光刻

　　包括30kV、50kV、90kV、110kV、130kV2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸如有任何需求和相关问题，敬请电话或邮件垂询.技术参数：1.小线宽：小于10nm（可实现8nm)2!加速电压：5-50kV3.电子束直径：小于2nm4!套刻精度：20nm(mean2σ)5.拼接精度：20nm(mean2σ)6!加工晶圆尺寸：4-8英寸(standard)，12英寸(option)7.

　　 欣源科技（北京）有限公司，位于北京市海淀区信息路甲28号D座06A-6331。公司主营其他未分类行业，如何了解{推广产品}产品信息详情请拔打热线：13701223713少鹏。 注气离心厅缩机多用于海上采油平台，用燃气轮机驱动，气体和油冷却也都采用空冷型。这种压缩机趋向于采用组装式机组，以尽量减小占地面积和便于安装。前面说到的centregal型中压注气离心压缩机就是其中一例，其标准型为三缸。低压缸转速为20500转／分，中、高压缸转速为30500转／分，进口流量150米。／分，排气压力10．3兆帕，由3230千瓦燃气轮机驱动。机组尺寸为8.4×2．4×3米。该压缩机采用整体隔板，并采用三角截面式主轴。叶轮与轴为滑动配合，当施加一定转矩时便产生自锁作用。拆卸时反方向施加一定力矩，叶轮便可松脱。高压级的小流量叶轮采用比较先进的电子束焊接制造，利用电：子束从外部将盖盘焊在叶轮上。轴封为干式机械密封，省去密封油系统，简化了机组结构。