氮化硅锰

其实，作为一种氮化材料，氮化锰可应用在不同的领域中。由于锰、氮的各种作用，在炼制高强度钢、不锈钢、耐热钢时需要同时加人锰、氮元素。以单质形式加入锰、氮两种元素时，存在如氮的溶解度低、密度小、不易加入及氮的添加量不易控制等缺点。然而，以氮锰化合物形式加入时，不仅易于加入，并且锰、氮的利用率也高。为了能够加深大家对氮化锰的了解，掌握更多关于氮化锰的应用范围，将向大家简单的讲一下氮化锰薄膜的制作方法。传统的Mn基阻挡层主要通过PVD共沉积CuMn复合材料，然后使用热退火处理，使Mn扩散介质表面来实现。但是，在退火过程中，Cu与low-k（比如SiCOH）介质直接接触，将会导致Cu在介质材料中扩散；而且形成的MnSixOy薄膜导电性较差，一般为绝缘体，会导致RC延迟增加。以脉冲的方式向反应腔中通入Mn(EtCp)2蒸气，使之与衬底表面的Si-H或Si-OH活性基团发生反应（Mn(EtCp)2中某一个化学键断裂与衬底表面的悬挂键成键），在衬底上形成密集且均匀且密集吸附的Mn(EtCp)2层；通入吹洗用气体，以将反应腔中多余的Mn(EtCp)2蒸气以及气态的反应副产物吹洗干净；以脉冲的方式向反应腔中通入NH3气体，同时开启等离子体发生器使其电离产生NH3等离子体，并与吸附于衬底表面的Mn(EtCp)2发生化学反应（NH3等离子体将与Mn连接的苯环键打断，并与Mn成键）。通入吹洗用气体，以将反应腔中多余的NH3等离子体以及反应副产物吹洗干净，获得氮化锰薄膜。通过以上方法制成的氮化锰薄膜具有很多优点，如制作工艺简单，无需后退火，可直接在介质上形成MnxNy阻挡层薄膜。氮化锰薄膜具有很好的均匀性和表面平整度，较低的电阻率。希望大家可以通过这些信息，进一步增加对氮化锰薄膜的了解。同时，也能间接的了解到，氮化锰的应用范围

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