电子束光刻系统EBL(E-BeamLithography)电子束直写系统、电子束曝光系统CABL-9000Cseries30kV、50kV、90kV、110kV、130kV2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统。

　　 欣源科技（北京）有限公司是一家专注其他未分类的企业，在电子束光刻EBL领域深耕十几年，对于电子束，有着敏锐的市场嗅觉，丰富的优化经验，扎实的技术团队。秉承互利互惠，合作双赢的理念，坚持客户至上，信誉的原则。致力于从多渠道，多方位，多平台为客户提供的电子束光刻EBL服务，并受到了客户的一致好评。

　　描电镜分辨率：小于2nm主要特点：1。采用高亮度和高稳定性的TFE电子枪2!出色的电子束偏转控制技术3!采用场尺寸调制技术，电子束定位分辨率（addresssize)可达0!0012nm4！采用轴对称图形书写技术，图形偏角分辨率可达0.01mrad5.应用领域广泛，如微纳器件加工，Si/GaAs兼容工艺，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻（Mix&Match），图形线宽和图形位移测量等!

E-Beam Lithography电子束光刻系统

　　型号包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列、CABL-4200LB及CABL-4200LB.其中CABL-9000C系列小线宽可达8nm，小束斑直径2nm，套刻精度20nm(mean2σ)，拼接精度20nm(mean2σ)！欣源科技SYNERCE代理日本CRESTEC公司的电子束光刻系统，又称作电子束曝光、电子束直写、EBL、E-BeamLithography等！

高品质E-Beam Lithography电子束光刻系统

　　 我司主营其他未分类领域的企业，主要以电子束为主要产品，公司位于北京市海淀区信息路甲28号D座06A-6331，更多产品信息详情请上www.synerce.com查看。欣源科技（北京）有限公司愿与社会各界朋友共同合作、共创双赢、共创精彩明天！

　　包括30kV、50kV、90kV、110kV、130kV2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸如有任何需求和相关问题，敬请电话或邮件垂询.技术参数：1!小线宽：小于10nm（可实现8nm)2.加速电压：5-50kV3。电子束直径：小于2nm4！套刻精度：20nm(mean2σ)5!拼接精度：20nm(mean2σ)6.加工晶圆尺寸：4-8英寸(standard)，12英寸(option)7。

　　==================================超高分辨率电子束光刻EBLUltrahighResolutionEBLithography(CABL-UHseries)纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一.日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供的电子束纳米光刻（EBL）系统，或称电子束直写（EBD）、电子束爆光系统.　　快速成型技术是采用复合纸、高聚物质、金属粉末、高温合金、复合陶瓷、铸造型砂等作为加工原材料；利用电热、激光束、电子束作为能量源，按分层实体制造（LOM）；熔融沉积成型（FDM）、紫外线激光固化（SLA）、激光区域烧结（SLS）等方法来实现原型零件造型，用于快速考核零件设计的正确性与可行性，大大缩短整机开发生产周期。除了应用于制造机械零件原型、型砂制芯，甚至也进入立体艺术品型体塑形和人体医学仿生件（如骨关节）制造等相关领域。这是计算机科学、新材料科学、新能源科学综合集成发展的最新产物。